- 十一月5日
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日本kysera公司对多晶硅衬底进行了晶界钝化和表面钝化,采用反应粒子刻边技术形成织构化表面,采用PECVD工艺制备了SiN减反射钝化膜,采用丝网印刷法制备了铝背场电极和前面栅线,以此形成多晶硅太阳能电池。采用上述工艺制备的面积为15cm×15cm的多晶硅电池的效率达到17.1%,目前日本正计划实现这种电池的产业化。
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日本kysera公司对多晶硅衬底进行了晶界钝化和表面钝化,采用反应粒子刻边技术形成织构化表面,采用PECVD工艺制备了SiN减反射钝化膜,采用丝网印刷法制备了铝背场电极和前面栅线,以此形成多晶硅太阳能电池。采用上述工艺制备的面积为15cm×15cm的多晶硅电池的效率达到17.1%,目前日本正计划实现这种电池的产业化。
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